Stainless Wet Station – 6인치용 + Spin Cleaner 내장형
스테인리스 구조로 제작된 본 Wet Station은, 6인치급 웨이퍼 공정에 최적화된 습식 세정·식각·박리 공정 대응형 장비입니다.
내장형 Spin Cleaning Unit을 통합하여 디아이 워터(초순수) 기반 회전 세정 공정까지 일체형 구성으로 처리 가능하며,
연구소, 반도체 부설 R&D 센터, 소량 생산 라인에 적합하도록 설계되었습니다
핵심 기능
6인치 웨이퍼 전용 Wet Process Line 구성
스테인리스 하우징 (SUS304) – 내식성 & 클린룸 대응
Spin Cleaning 내장형 구조 – 회전 세정 및 건조 공정까지 가능
디지털 온도 제어, 약액 공급 제어, 배기 구조 내장
상부 Yellow Light 윈도우 구성 → 포토레지스트 대응 환경
하부 Chemical Storage 및 Drain System 분리 설계
운영 편의성 높은 HMI 제어판 구성
제안 대상
반도체 소자 공정 연구소
대학/국책연구소 MEMS 공정 라인
실험 Fab의 PR 제거, 산 세정, 알칼리 후세정
GaAs, Si, SiN, Glass Substrate용 웻 공정 대응
본 홈페이지의 모든 콘텐츠(텍스트, 이미지, 도면, 영상 등)는 ⓒ (주)씨에스와이 / CSY Co., Ltd.의 자산이며, 「저작권법」 및 「부정경쟁방지법」에
따라 보호받고 있습니다.
Stainless Wet Station – 6인치용 + Spin Cleaner 내장형
스테인리스 구조로 제작된 본 Wet Station은, 6인치급 웨이퍼 공정에 최적화된 습식 세정·식각·박리 공정 대응형 장비입니다.
내장형 Spin Cleaning Unit을 통합하여 디아이 워터(초순수) 기반 회전 세정 공정까지 일체형 구성으로 처리 가능하며,
연구소, 반도체 부설 R&D 센터, 소량 생산 라인에 적합하도록 설계되었습니다
핵심 기능
6인치 웨이퍼 전용 Wet Process Line 구성
스테인리스 하우징 (SUS304) – 내식성 & 클린룸 대응
Spin Cleaning 내장형 구조 – 회전 세정 및 건조 공정까지 가능
디지털 온도 제어, 약액 공급 제어, 배기 구조 내장
상부 Yellow Light 윈도우 구성 → 포토레지스트 대응 환경
하부 Chemical Storage 및 Drain System 분리 설계
운영 편의성 높은 HMI 제어판 구성
제안 대상
반도체 소자 공정 연구소
대학/국책연구소 MEMS 공정 라인
실험 Fab의 PR 제거, 산 세정, 알칼리 후세정
GaAs, Si, SiN, Glass Substrate용 웻 공정 대응
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