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CSY의 Wet Bench는 반도체 또는 Chemical 공정이 적용되는 산업분야에 에칭및 박리 , 세정등의 공정을 진행하는 설비로서 Chemical을 사용하는 모든 공정에 적용가능하며 Wet station 에 비하여 적은 비용으로 구성이 가능한 장점이 있습니다.
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CSY의 Wet Bench는 반도체 또는 Chemical 공정이 적용되는 산업분야에 에칭및 박리 , 세정등의 공정을 진행하는 설비로서 Chemical을 사용하는 모든 공정에 적용가능하며 Wet station 에 비하여 적은 비용으로 구성이 가능한 장점이 있습니다.
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CSY의 WET SINK & BATH는 반도체 또는 Chemical 공정이 적용되는 분야에서 사용 가능하며 단순 세정및 part's의 세정을 간편하게 할 수 있습니다.
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CSY의 WET SINK & BATH는 반도체 또는 Chemical 공정이 적용되는 분야에서 사용 가능하며 단순 세정및 part's의 세정을 간편하게 할 수 있습니다.
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