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CMP Post Cleaner

R&D PVA Brush & Pencle Cleaner

CSY의 R&D PVA Brush & Pencle Cleaner 는 CMP공정 중 발생하는 Partile을 PVA Brush를 이용하여 제거하는 설비로  CMP관련 기업연구소 및  대학 연구소에  최적화된  설비이며 PVA Brush 뿐만 아니라 Pencle brush 장착이 가능하여 다양한 실험을 할수 있게 합니다.

Application

Features

  • CMP Post Cleaning
  • R&D Post CMP Cleaning process
  • Full Auto  process
  • coupon wafer and 300mm Wafer Application
  • Easy to operate

R&D PVA Brush Cleaner

CSY의 R&D PVA Brush Cleaner는  Coupone wafer에서 최대  200mm Wafer를   PVA Brush를 이용하여 제거하는 설비로  CMP관련 기업연구소 및  대학 연구소에  최적화된  설비입니다.

Application

Features

  • CMP Post Cleaning
  • R&D Post CMP Cleaning process
  • Full Auto  process
  • coupon wafer and 100mm Wafer Application
  • Easy to operate

R&D PVA Pencle Claener

CSY의 R&D PVA Pencle Cleaner는  Coupone wafer에서 최대  200mm Wafer를   PVA Pencle Brush를 이용하여 제거하는 설비로  CMP관련 기업연구소 및  대학 연구소에  최적화된  설비입니다.

Application

Features

  • SLA
  • Wet Chemical Etching
  • Manual Process
  • High chemical resistance
  • Easy to operate